鉻黃顏料研磨分散機(jī)

無(wú)機(jī)顏料的基本光學(xué)性能和顏料性能，主要由以下三方面來(lái)確定：

1.顏料與分散介質(zhì)之間的折光率之差；

2.被固體吸收的光（包括固體中的雜質(zhì)）；

3.粒徑及粒徑分布。其中粒徑及粒徑分布可以通過(guò)表面處理來(lái)改善。

無(wú)機(jī)顏料近年來(lái)的研究開(kāi)發(fā)方向主要是：

1.發(fā)展復(fù)合顏料，例如亮藍(lán)(CoO·Cr2O3·Al2O3)、鈦鎳黃(TiO2·NiO·Sb2O3)等。在鎳、銻的鈦酸鹽中,添加鉻、鈷、鐵、鋅等氧化物，可制成黃、綠、藍(lán)、棕等耐高溫、耐久、耐化學(xué)藥品的低毒至無(wú)毒的顏料，色澤鮮亮,性能優(yōu)良,可用于有高耐久性要求的建筑材料、涂料、工程塑料的著色及配制繪畫(huà)顏料等。

2.開(kāi)發(fā)顏料顆粒表面處理技術(shù)，以無(wú)機(jī)化合物或有機(jī)化合物在顏料顆粒表面形成一層色膜，可改變顏料顆粒表面性能，提高耐光、耐熱、潤(rùn)濕等特性，擴(kuò)大應(yīng)用面，提高使用價(jià)值。③制造加工顏料，使用戶(hù)可直接應(yīng)用，節(jié)省大量研磨加工的費(fèi)用。

SID鉻黃顏料研磨分散機(jī)的簡(jiǎn)介：

SID研磨分散機(jī)通過(guò)皮帶傳送，可實(shí)現(xiàn)普通分散機(jī)兩到三倍的加速，同時(shí)立式直立的轉(zhuǎn)軸，運(yùn)轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高，同時(shí)轉(zhuǎn)子動(dòng)平衡性得到提高，間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將SID膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來(lái)GM2000系列研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)。

GMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

GMSD2000設(shè)備參數(shù)表：